磁控溅射镀膜原理动图
2023-11-12
随着科技的不断进步,人们对于材料的要求越来越高,特别是在表面处理方面。磁控溅射镀膜技术是一种高效、环保的表面处理技术,被广泛应用于电子、光学、航空航天等领域。本文将介绍磁控溅射镀膜原理动图,并详细阐述磁控溅射镀膜的原理、设备、工艺参数和应用。 原理 磁控溅射镀膜技术是利用高速电子轰击靶材表面,使靶材表面的原子或离子脱离,并在真空环境下沉积到基材表面上,形成一层薄膜。磁控溅射镀膜技术主要包括靶材、基材、真空室和磁场四个部分。其中,靶材是溅射源,基材是被镀膜的物体,真空室是保证真空度的设备,磁场则